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半导体制造相关设备

CMP研磨液供给系统粉状氧化剂(APS)

粉体酸化剤(APS)溶解・供給システム
粉状氧化剂(APS) 粉状氧化剂溶解・供给系统

该设备能够对应金属CMP工艺中使用的粉状氧化剂(APS)。可现场溶解粉末,调节水溶液的浓度,并对研磨设备进行供给。

产品特点

               ###具有溶解粉末功能的原液桶柜。

               ###基于New MX2000或iSIS1200J的供给系统。

               ###可以对复数台研磨设备集中供应

               ###可通过触摸屏面板进行各种运行操作,设定以及监视各种参数。

               ###具有监视功能,例如警报历史记录,原液桶条形码管理和操作数据记录。

               ###具有手动操作模式,自动清洗等设备维护保养功能

               ###配有浓度计量器和过滤器。

               ###支持各种客制化设置,例如更改粉末容器的尺寸。

               ###可提供如阀门箱,电源面板,监视面板等各种附带设备。

mla-sag@tazmo.co.jp

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