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半导体制造相关设备

CMP研磨液供给系统New MX2000

スラリー希釈混合供給システム
New MX2000 研磨液稀释混合供给系统

New MX2000是化学机械研磨(CMP)工程中,将多种研磨液进行稀释,混合与供给的一体化设备。为了抑制研磨液内粒子的凝聚,我们选择了与传统的泵式供给不同的新颖供给方式。该装置拥有20年以上的使用实绩,在多个半导体工厂对高效且安定的半导体生产做出了卓越贡献。

产品特点

###使用真空抽吸/氮气压进给的供应方法。

###可以对复数台研磨设备集中供应。

###可通过触摸屏面板进行各种运行操作,设定以及监视各种参数。

###具有监视功能,例如警报历史记录,原液桶条形码管理和操作数据记录。

###具有手动操作模式,自动清洗等设备维护保养功能

###支持如变更为泵式供给,对单体研磨机进行供给等多种客制化选项。

###可提供如桶柜,阀门箱,研磨液状性状时测定仪,过滤器,电源面板,监视面板等各种附带设备

mla-sag@tazmo.co.jp

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