PRODUCTS製品情報

半導体製造装置

CMPスラリー供給システムNew MX2000

スラリー希釈混合供給システム
New MX2000 スラリー希釈混合
供給システム

New MX2000は、CMP工程で使用する各種スラリーの希釈・混合および供給を行う装置です。
研磨剤粒子の凝集を抑制する為、ポンプを使用しないユニークな供給方式を採用しています。20
年以上の実績を有し、多くの半導体工場で高い稼働率と安定した生産の実現に貢献しています。

製品特徴

###真空吸引/窒素ガス圧送による供給方式です。
###複数台のCMP装置への集中供給が可能です。
###タッチパネルによる運転操作、各種設定、計器類モニター。
###アラーム履歴、原液ドラムバーコード管理、運転データロギングなど監視機能。
###手動操作、自動洗浄などメンテナンス機能。
###ポンプ供給方式への変更、CMP単体へのローカル供給など各種カスタマイズに対応しています。
###付帯ユニット例として、ドラムキャビネット、バルブボックス、モニタリング機器、フィルター、電源盤、
監視盤などをラインナップしています。

mla-sag@tazmo.co.jp

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