PRODUCTS製品情報
半導体製造装置
リン酸プロセス装置

PSYRION® リン酸再生装置
窒化膜エッチングに用いられる熱リン酸は、プロセス処理により生成される珪素の濃度が上昇するため、定常的に新液への交換が必要になります。この珪素を弊社独自の技術により除去する事でリン酸の再生・再利用が可能になります。PSYRION®は、先端半導体メーカー様で多数採用され、薬品コストの削減、環境対策に貢献しています。
製品特徴
###リン酸の調達コストを劇的に削減します。
###リン酸廃液を削減し、貴社の環境施策に貢献します。
###再生回数に制限はありません。繰り返し再生が可能です。
###複数のウェットステーション、処理槽と接続することができます。
###ウェットステーションメーカー、機種を問わず接続可能です。
###系内の自動洗浄機能を装備しています。
###各種オプションに対応します。

BLEND UNIT 珪素濃度調整装置
熱リン酸プロセスでは、処理槽内の薬液交換を行った直後には珪素濃度が低過ぎるため、ダミー処理を行う必要があり、生産性が低下してしまうという問題が発生します。廃液中の珪素濃度を測定し、適量の新液をブレンドすることで、任意の珪素濃度のリン酸を生成することが可能となり、液交換直後からプロセスに適用できるため、熱リン酸プロセスの生産性を向上させます。
製品特徴
###処理槽の薬液交換後のダミー処理(溶かしこみ)が不要で生産性向上、NPWコスト削減に寄与します。
###独自開発の珪素濃度モニターを搭載しています。
###リン酸廃液中の珪素濃度を測定し、任意の珪素濃度のリン酸を生成します。
###系内の自動洗浄機能を装備しています。
###各種オプションに対応します。
プロセス4事業部 営業課
(03)6892-5123
(03)6233-9730