PRODUCTS製品情報

半導体製造装置

NISONリン酸プロセス装置

リン酸再生装置
PSYRION® リン酸再生装置

 窒化膜エッチングに用いられる熱リン酸は、プロセス処理により生成される珪素の濃度が上昇するため、定常的

に新液への交換が必要になります。この珪素を弊社独自の技術により除去する事でリン酸の再生・再利用が可能に

なります。PSYRION®は、先端半導体メーカー様で多数採用され、薬品コストの削減、環境対策に貢献しています。

製品特徴

             ###リン酸の調達コストを劇的に削減します。

             ###リン酸廃液を削減し、貴社の環境施策に貢献します。

             ###再生回数に制限はありません。繰り返し再生が可能です。

             ###複数のウェットステーション、処理槽と接続することができます。

             ###ウェットステーションメーカー、機種を問わず接続可能です。

             ###系内の自動洗浄機能を装備しています。

              ###各種オプションに対応します。

珪素濃度調整装置
BLEND UNIT 珪素濃度調整装置

 熱リン酸プロセスでは、処理槽内の薬液交換を行った直後には珪素濃度が低過ぎるため、ダミー処理を行う必要があり、生産

性が低下してしまうという問題が発生します。廃液中の珪素濃度を測定し、適量の新液をブレンドすることで、任意の珪素濃度

のリン酸を生成することが可能となり、液交換直後からプロセスに適用できるため、熱リン酸プロセスの生産性を向上させます。

製品特徴

   ###処理槽の薬液交換後のダミー処理(溶かしこみ)が不要で生産性向上、NPWコスト削減に寄与します。

   ###独自開発の珪素濃度モニターを搭載しています。

   ###リン酸廃液中の珪素濃度を測定し、任意の珪素濃度のリン酸を生成します。

   ###系内の自動洗浄機能を装備しています。

   ###各種オプションに対応します。

リン酸高温循環装置
NISON®1800 リン酸高温循環装置

 NISON®1800は、熱リン酸による窒化膜エッチングに必要不可欠な装置として長年に渡り半導体業界で広く採用されてき

ました。その機能は、多くのユーザーより高い評価を受けています。窒化膜エッチングのメカニズム解析を積極的に進め、従来

の経験的なエッチングからデジタル化された制御となり、熱リン酸プロセスにおけるデファクトスタンダードとなっています。

製品特徴

            ###フィールドで長年実証されてきたプロセス性能です。

            ###処理槽の沸騰制御により、安定的に高いエッチングレートを維持します。

            ###2つの処理槽に対応するデュアルタイプもラインナップしています。

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アプリシア事業 営業課

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