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半导体制造相关设备
CMP研磨液供给系统
New MX2000 研磨液稀释混合供给系统
New MX2000是化学机械研磨（CMP）工程中，将多种研磨液进行稀释，混合与供给的一体化设备。为了抑制研磨液内粒子的凝聚，我们选择了与传统的泵式供给不同的新颖供给方式。该装置拥有20年以上的使用实绩，在多个半导体工厂对高效且安定的半导体生产做出了卓越贡献。
产品特点
###使用真空抽吸/氮气压进给的供应方法。
###可以对复数台研磨设备集中供应。
###可通过触摸屏面板进行各种运行操作，设定以及监视各种参数。
###具有监视功能，例如警报历史记录，原液桶条形码管理和操作数据记录。
###具有手动操作模式，自动清洗等设备维护保养功能
###支持如变更为泵式供给，对单体研磨机进行供给等多种客制化选项。
###可提供如桶柜，阀门箱，研磨液状性状时测定仪，过滤器，电源面板，监视面板等各种附带设备
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