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半导体制造相关设备
磷酸处理设备
PSYRION® 磷酸再生设备
在使用热磷酸刻蚀氮化硅膜的工艺过程中，由于刻蚀而生成的硅会导致热磷酸内的硅浓度上升。因此需要定期地更换热磷酸溶液。利用弊社开发的独创技术，可将这些不需要的硅去除，使得磷酸的再生和再利用成为可能。PSYRION®被各大顶尖半导体制造商所采用，有效减少了半导体工艺中化学溶剂的消耗，为环境保护做出了贡献。
产品特点
###大幅减少磷酸的使用量以及使用成本。
###抑制了环境污染物磷酸废液的排放，为贵司的环境污染对策做出贡献。
###磷酸的再生没有次数限制。
###可与同时与复数个Wet Station以及处理槽连接。
###适配于所有Wet Station制造商的任意机型。
###提供多种可选择的功能。
Sales Div. Apprecia Business Unit
（03）6892-5123
（03）6233-9730
