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半导体制造相关设备
磷酸处理设备
NISON®1800 热磷酸循环设备
我司开发的NISON®1800作为热磷酸刻蚀氮化硅膜的工艺中不可或缺的设备，多年来被半导体业界所广泛采用至今。凭借其优良性能，受到了顾客们的高度赞赏。我们积极地对氮化硅膜刻蚀机制进行解析，将依存与传统经验进行控制的刻蚀处理转化为数字化控制，定义了热磷酸处理的业界标准。
产品特点
###被半导体的生产现场所公认多年的优良处理性能。
###通过控制处理槽内的溶液保持沸腾，进而维持高而稳定的刻蚀效率。
###提供对应双处理槽的Duel type。
Sales Div.Apprecia Business Unit
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